В России создали отечественное оборудование для производства микрочипов
Ключевое технологическое преимущество установок — работа в вакууме
Российские ученые разработали первые отечественные кластерные установки для производства микрочипов. Оборудование для плазмохимического травления и осаждения создано по заказу Минпромторга России АО «НИИМЭ» совместно с АО «НИИТМ» (входят в ГК «Элемент»), сообщает пресс-служба министерства.
Новые установки позволяют изготавливать микрочипы с проектными нормами до 65 нм. Они способны обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции — от нанесения тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния) до плазмохимического травления для создания наноструктур. Ключевое технологическое преимущество установок — работа в вакууме. Заготовки для чипов не контактируют с воздухом, что исключает загрязнение и заметно повышает процент выхода годной продукции.

Сообщается, что внедрение нового оборудования позволит модернизировать производство и приблизить создание полного цикла изготовления микрочипов в России. Напомним, что ранее Елабужский завод запустил производство отечественных EFB‑аккумуляторов.
